• deposizione elettrochimica di film di rame
• silicio microlavorato

Negli ultimi anni stanno assumendo sempre più importanza le tecniche di micromachining, intese, nel senso più generale del termine, come processi per la microlavorazione dei materiali. Tra tutte, di particolare interesse sono le tecniche che permettono la fabbricazione di strutture metalliche di dimensioni micrometriche. Le applicazioni di queste tecniche sono innumerevoli, basti pensare al sempre crescente sviluppo dei MEMS (Micro Electro-Mechanical Systems). Le parti micromeccaniche, infatti, occupano meno spazio, rispondono più velocemente, sono più robuste e spesso anche meno costose delle corrispondenti parti meccaniche di dimensioni macrometriche. In questo ambito, esiste ed ha raggiunto ottimi livelli di perfezionamento, il processo LIGA, capace di realizzare strutture tridimensionali con un rapporto altezza-larghezza elevato (fino a 100), in una vastissima varietà di materiali (metalli, ceramiche e polimeri). Per poter attuare questo processo è necessario tuttavia disporre di attrezzature molto costose, indispensabili per la litografia a raggi X su cui è basato il processo.
L’idea alla base di questo lavoro di tesi è la messa a punto di un processo per la realizzazione di microstrutture metalliche, in particolare in rame, che sia più semplice e meno costoso rispetto ad altri processi presenti in letteratura, quali ad esempio la tecnica LIGA. Il processo si basa essenzialmente su due passi tecnologici: la fabbricazione di microstrutture in silicio da usare come stampo; il riempimento delle microstrutture mediante rame.