ETD system

Electronic theses and dissertations repository

 

Tesi etd-05232006-122256


Thesis type
Tesi di laurea vecchio ordinamento
Author
Riccio, Dionigi
URN
etd-05232006-122256
Title
Sviluppo di sistemi per litografia a fascio elettronico
Struttura
INGEGNERIA
Corso di studi
INGEGNERIA ELETTRONICA
Commissione
relatore Diligenti, Alessandro
relatore Pennelli, Giovanni
Parole chiave
  • EBL
  • interferometro
Data inizio appello
14/06/2006;
Consultabilità
parziale
Data di rilascio
14/06/2046
Riassunto analitico
Il progressivo sviluppo delle tecnologie e dei processi in campo elettronico, ha permesso negli ultimi vent’anni, l’integrazione di sistemi via via più complessi senza un conseguente aumento proporzionale delle dimensioni; Si producono oggi sistemi con lunghezze di canale dei singoli transistori di 3-400nm, ed e&#39; in fase di ricerca una tecnologia di 140nm. Il passo successivo, a cui sono dedicate attivita&#39; di ricerca in ambito accademico e industriale, e&#39; a questo punto, quello dei dispositivi nanoelettronici. Per aumentare la risoluzione si rende necessario l’uso di tecniche piu&#39; raffinate quale la litografia a fascio elettronico (electron beam lithography), in cui un pennello di elettroni percorre, secondo le geometrie dettate dalla maschera, la superficie di un campione trattato con un resist opportuno.<br>Chiaramente tale processo e&#39; ottenibile soltanto grazie allo sviluppo e all’ottimizzazione di un resist non più fotosensibile, ma sensibile agli elettroni (PMMA, polimetilmetacrilato).<br>Il sistema per la litografia a fascio elettronico presente presso il Dipartimento e&#39; costituito da un microscopio elettronico a scansione del tipo ad emissione di campo e da un sistema di pattern generator.Questo lavoro di Tesi si prefigge lo scopo di evolvere il pattern generator attuale sotto il punto di vista della velocita di scrittura, della risoluzione e della gestione software.<br>
File